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簡要介紹薄膜熱電阻的原理以及使用場合

發(fā)布時間:2019-07-29 閱讀次數(shù):0次

 薄膜鉑熱電阻由一種新的鉑熱電阻生產(chǎn)技術(shù)生產(chǎn),即用膜工藝改變原有的線繞工藝,制備薄膜鉑熱電阻。它是由亞微米或微米厚的鉑膜及其依附的基板組成。它的測溫范圍是-50-600℃。目前國產(chǎn)薄膜鉑熱電阻精度可達(dá)到德國標(biāo)準(zhǔn)(DIN)中的B級,技術(shù)上與國際**水平尚有差距。由于薄膜熱容量小,熱導(dǎo)率大,而基板又是很好的絕緣材料,薄膜鉑熱電阻能準(zhǔn)確地測出所在表面的真實溫度。

1、薄膜鉑熱電阻的特點
①可制成高阻值元件(如1000Ω),適合配用顯示儀表,使用方便,穩(wěn)定可靠。
②靈敏度高,響應(yīng)快,在流速為0.4m/s的水中,響應(yīng)時間(τ0.5)為0.15s。
③外形尺寸小(約5mm×2mm×1.3mm),便于安裝在狹小的場所。
④可大批量自動化生產(chǎn),成本低,約為同類繞線電阻價格的1/2-1/3。
⑤缺點是抗固體顆粒正面沖刷性能差。
鉑熱電阻:yunrun.com.cn/product/123.html
2、薄膜鉑熱電阻的設(shè)備
制備的方法有真空沉積及陰極濺射法等。主要工藝流程如下:基板炎魔拋光→清洗→鉑蒸鍍或真空沉積在氧化鋁基板上→激光自動刻阻→截取單支元件→超聲熱壓焊接引線→涂玻璃釉→通電檢測與篩選。

3、薄膜鉑熱電阻的電阻與溫度關(guān)系
鉑熱電阻的電阻由兩部分組成:隨溫度變化的電阻RT及不隨溫度變化的剩余電阻Rt。它們的電阻與溫度的關(guān)系為:
R(T)=RT+Rt=100×{1+RT/(RT+Rt)×A×T+RT/(RT+Rt)×B×T2},公式中A和B為常數(shù)。

4、薄膜鉑熱電阻應(yīng)用
薄膜鉑熱電阻的生產(chǎn)工藝成熟,產(chǎn)量高。適用于表面、狹小區(qū)域、快速測溫計需要高阻值元件的場合。

zui近薄膜鉑熱電阻制作工藝又有所改進(jìn)。把鉑研制成粉漿,采用感光平板印刷技術(shù),將鉑附著在陶瓷基片上形成鉑膜。膜厚在2μm以內(nèi)加上引線,保護(hù)釉經(jīng)激光刻阻制作而成。

這種薄膜鉑熱電阻具有良好的長期穩(wěn)定性。在600℃溫度下工作1000h后,其電阻變化<0.02%。

薄膜鉑熱電阻的引線隨工作溫度不同而異:
-200~150℃時,引線材質(zhì):鈀銀合金。Φ0.25mm×10mm。
-50~400℃時,引線材質(zhì):鈀銀合金。Φ0.25mm×10mm。
-50~600℃時,引線材質(zhì):鉑鎳合金。Φ0.25mm×10mm。
-60~850℃時,引線材質(zhì):鉑銠合金。Φ0.25mm×10mm。